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元素分析X射线荧光分析和电子探针分析ppt课件.ppt

元素分析(元素分析(22)X射线荧光分析和电子探针分析朱永法2003年9月28日材料分析化学 1 清华大学化学系表面材料组X射线荧光光谱分析n 基础知识 1923年建立X射线荧光分析方法; 1950 X射线荧光分析谱仪1980 全反射X射线荧光谱仪 应用:固体材料(矿物,陶瓷,建材,环境,金属材料,薄膜,镀层分析)材料分析化学 2 清华大学化学系表面材料组XRF分析 方法原理n X射线荧光的产生 原子中的内层(如K层)电子被X射线辐射电离后在K层产生一个正孔穴。外层(L层)电子填充K层孔穴时,会释放出一定的能量,当该能量以X射线辐射释放出来时就可以发射特征X射线荧光。 材料分析化学 3 清华大学化学系表面材料组XRF分析原理n 荧光产率 俄歇效应与X射线荧光发射是两种相互竞争的过程。对于原子序数小于11的元素,俄歇电子的几率高。但随着原子序数的增加,发射X射线荧光的几率逐渐增加。重元素主要以发射X射线荧光为主。 材料分析化学 4 清华大学化学系表面材料组XRF分析原理n Moseley 定律 1/2a(Z-b) X射线荧光频率的平方根与元素的原子序数成正比 。只要获得了X射线荧光光谱线

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