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泓域咨询 /光罩项目工业用地申请报告光罩项目工业用地申请报告报告说明光罩又称光掩模版、掩膜版，由石英玻璃作为衬底，在上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻。光罩是半导体核心工艺光刻的最关键器件。根据谨慎财务估算，项目总投资37102.05万元，其中：建设投资29368.60万元，占项目总投资的79.16%；建设期利息311.09万元，占项目总投资的0.84%；流动资金7422.36万元，占项目总投资的20.01%。项目正常运营每年营业收入66800.00万元，综合总成本费用54041.63万元，净利润9324.34万元，财务内部收益率18.92%，财务净现值11012.35万元，全部投资回收期5.82年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。该项目的建设符合国家产业政策；同时项目的技术含量较高，其建设是必
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