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泓域咨询 /光罩项目数据分析报告报告说明光罩又称光掩模版、掩膜版，由石英玻璃作为衬底，在上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻。光罩是半导体核心工艺光刻的最关键器件。根据谨慎财务估算，项目总投资24079.02万元，其中：建设投资19534.90万元，占项目总投资的81.13%；建设期利息474.65万元，占项目总投资的1.97%；流动资金4069.47万元，占项目总投资的16.90%。项目正常运营每年营业收入48400.00万元，综合总成本费用39422.06万元，净利润6566.87万元，财务内部收益率20.34%，财务净现值5748.19万元，全部投资回收期5.98年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。本项目符合国家产业发展政策和行业技术进步要求，符合市场要求，受到国家技术经济政策的保护和扶持，适应本地区及临近
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