Thin Film Materials & Technologies薄膜材料与技术材料科学与工程学院 2008西安理工大学Xian University of Technology-1-2 薄膜沉积的化学方法概 念:薄膜制备过程中,凡是需要在一定化学反应发生的前提下完成薄膜制备的 技术方法,统称为薄膜沉积的化学方法。条 件:化学反应需要能量输入和诱发优、缺点:设备简单、成本较低、甚至无需真空环境即可进行; 化学制备、工艺控制复杂、有可能涉及高温环境。分 类:Thin Film Materials & Technologies薄膜材料与技术材料科学与工程学院 2008西安理工大学Xian University of Technology-2-2 薄膜沉积的化学方法2.1 热生长概 念:指在充气环境下,通过加热基片的方式 直接获得氧化物、氮化物或碳化物薄膜 的方法。 特 点:非常用技术 主要用于生长金属或半导体的氧化物薄膜设 备:通常在传统的氧化炉中进行。主要应用:制备SiO2薄膜(用于Si器件制备)有用的薄膜性质:生长与沉积的区别:热生长设备及原理示意图Thin Film Materia