1、第三章微影技術微影微影 ，簡單來說，是將光源透過有圖案的光罩，將光罩上的圖案完整地傳送到晶片表面所塗抹的感光材料（光阻）上，再進行去除或保留光阻的步驟，以完成圖案轉移。微影技術的解析度限定了半導體元件的最小線寬，而解析度主要由光阻性質與曝光設備及方法來決定。無塵室 (Clean Room)無塵室中污染物的控制：1.無塵室溫溼度的控制2.震動的控制3.純水的控制4.粉塵顆粒的控制5.氣體的控制6.電磁波的控制7.靜電的控制8.化學品的控制美國無塵室等級 (參照 FED-STD-209D)每立方英呎室內之空氣所含有大於或等於 0.5m ( )之微塵粒子顆數Class 1 不超過 1顆Class 1
2、0 不超過 10顆Class 100 不超過 100顆Class 1k 不超過 1k顆製程氣體不純物對製程可能造成的影響製程氣體 氣體中的不純物 對製程可能的影響， Ar 破壞氧化薄層品質碳元素導致電流碳元素導致電流易產生晶格缺陷導致漏電碳元素會導致電流在空氣中自燃 ,自燃後產生二氧化矽顆粒阻塞管道微影製程步驟圖示光阻 (photo resist)1.光組主要由樹脂 (resin)， 感光劑 (sensitizer)， 溶劑(solvant)三種成分混合而成。2.光阻分為正光阻及負光阻兩種(a)正光阻：光阻本身難溶於顯影液 ， 曝光後解離成小分子 ， 形成容易溶於顯影液的結構。(b)負光阻：曝光後形成不容易溶於顯影液的結構。光阻特性及正負光阻圖示光阻材料的性質 : 敏感度 (sensitivity)或稱為感光度 對比 (contrast) 解析度 (resolution) 光吸收度 (optical density) 耐蝕刻度 純度 (purity)
