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CZ法单晶生长原理及工艺流程(共5页).doc

精选优质文档-倾情为你奉上CZ生长原理及工艺流程CZ法的基本原理,多晶体硅料经加热熔化,待温度合适后,经过将籽晶浸入、熔接、引晶、放肩、转肩、等径、收尾等步骤,完成一根单晶锭的拉制。炉内的传热、传质、流体力学、化学反应等过程都直接影响到单晶的生长与生长成的单晶的质量,拉晶过程中可直接控制的参数有温度场、籽晶的晶向、坩埚和生长成的单晶的旋转与升降速率,炉内保护气体的种类、流向、流速、压力等。CZ法生长的具体工艺过程包括装料与熔料、熔接、细颈、放肩、转肩、等径生长和收尾这样几个阶段。 1装料、熔料 装料、熔料阶段是CZ生长过程的第一个阶段,这一阶段看起来似乎很简单,但是这一阶段操作正确与否往往关系到生长过程的成败。大多数造成重大损失的事故(如坩埚破裂)都发生在或起源于这一阶段。2籽晶与熔硅的熔接当硅料全部熔化后,调整加热功率以控制熔体的温度。一般情况下,有两个传感器分别监测熔体表面和加热器保温罩石墨圆筒的温度,在热场和拉晶工艺改变不大的情况下,上一炉的温度读数可作为参考来设定引晶温度。按工艺要求调整气体的流量、压力、坩埚

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