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扩散课工艺培训培训内容 n扩散部设备介绍n氧化工艺介绍n扩散工艺介绍n合金工艺介绍n氧化层电荷介绍nLPCVD工艺介绍扩散部设备介绍卧式炉管立式炉管炉管工艺和应用(加)氧化工艺-1n氧化膜的作用n选择扩散和选择注入。 阻挡住不需扩散或注入的区域，使离子不能进入。氧化工艺-2n氧化膜的作用n缓冲介质层 二次氧化等，缓冲氮化硅应力或减少注入损伤氧化工艺-3n氧化膜的作用器件结构的一部分：如栅（Gate）氧化层，非常关键的项目，质量要求非常高；电容极板之间的介质，对电容的大小有较大影响 氧化工艺-4氧化膜的作用n隔离介质：工艺中常用的场氧化就是生长较厚的二氧化硅膜，达到器件隔离的目的。 氧化工艺-5n氧化方法n干氧氧化 SI+O2 = SIO2 结构致密，均匀性、重复性好，掩蔽能力强，对光刻胶的粘附性较好，但生长速率较慢，一般用于高质量的氧化，如栅氧化等；厚层氧化时用作起始和终止氧化；薄层缓冲氧化也使用此法。n水汽氧化 2H2O+S
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