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用化学气相沉积（CVD）法制备薄膜材料演讲人：肖骐 学号：21401204192 目 录 1 化学气相沉积方法发展简史 2 CVD的基本概念及原理 3 CVD合成工艺 4 CVD制造薄膜技术的介绍31 化学气相沉积方法发展简史古人类在取暖或烧烤时利用岩洞壁或岩石上的黑色碳层20世纪50年代主要用于道具涂层80年代低压CVD成膜技术成为研究热潮近年来PECVD、LCVD等高速发展20世纪60-70年代用于集成电路4化学气相沉积（CVD）：n 通过化学反应的方式，利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源，在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。n 简单来说就是两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到基片表面上。n 从气相中析出的固体的形态主要有：在固体表面上生成薄膜、晶须和晶粒，在气体中生成粒子。2 CVD的基本概念及原理5CVD技术要求：n 反应剂在室温或不太高的温度下最好是气态或有较高的蒸气压而易于挥发成蒸汽的液态或固态物质，且有很高的纯度；n 通过沉积反应易于生成所需要的材料沉积物
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