CVD 工艺基础CVD Process 介绍Chemical Vapor Deposition化学汽相淀积化学材料在 某种激励条件下， 在硅片表面成膜的过程。SiH4,TEOS,TEB,PH3,SiH2CL2热能 ;RF射频电磁能; 光能SiH4 Si H2例：WaferSiH4SiH4SiH4H2 H2SiH2Si 向硅片表面移动 在硅片表面被吸附 在硅片表面移动 副生成物脱离 膜形成一些简单的英文缩写 CVD Chemical Vapor Deposition APCVD Atmosphere Pressure CVD LPCVD Low Pressure CVD PECVD Plasma Enhanced CVD SACVD Sub-Atmosphere CVD NSG None-doped Silicon Glass BPSG Boron Phosphine doped Silicon Glass SOG Spin-On-Glass HDP High Density Plasma RTP Rapid Thermal Processing ARAspect Ratio HSGHe
