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第五 章 薄膜表征实验中控制镀膜厚度是最重要的。要控制镀膜的厚度，应该要求膜厚测量仪与膜材料蒸发器统一受控与同一系统，使这两部分装置协调工作、相互配合，当膜厚达到要求时立即停止加热，并冷却。这样才能有效地控制膜厚，使镀膜厚度达到光学仪器的设计要求。坩埚基板电脑加热器膜厚测量装置一、沉积率和厚度监测仪（一）气相密度检测通过测量蒸汽密度测量膜厚的离化监测计f- 灯丝 c- 收集极 Ii- 离子电流 Ie- 电子电流（二）振动石英 石英晶体振荡式检测：石英片由一个固有的谐振频率，淀积在它表面的物质质量改变时，谐振频率发生变化，推算淀积层的厚度（三）光学膜厚检测透明薄膜产生光学干涉（四）其他监测仪器在溅射系统中的一个光学厚度检测装置 二、膜厚度测量（一）光学厚度确定Tolansky干涉仪FECO干涉仪 （二）X射线干涉仪（Kiessig）x射线干涉仪图x射线干涉仪反射曲线根据Shell 定律可以得出，表面和界面反射的光程差为，从而厚度可以看成：（三）探针法测量膜厚的探针法 第二节 组分表征p 化学成份是决定纳米粒子及其制品性能的最基本因素。常用的仪器分析法主要是利用各种化学成份的特征谱线 一、
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