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第一节第一节 真空蒸发镀膜原理真空蒸发镀膜原理 一定义：真空蒸发镀膜一定义：真空蒸发镀膜(蒸镀蒸镀)是是在真空条件下，加热蒸发物质使在真空条件下，加热蒸发物质使之之气化气化并淀积在基片表面形成固并淀积在基片表面形成固体薄膜，是一种物理现象。体薄膜，是一种物理现象。广泛地应用在机械、电真空、无广泛地应用在机械、电真空、无线电、光学、原子能、空间技术线电、光学、原子能、空间技术等领域。等领域。加热方式可以多种多样。加热方式可以多种多样。1PPT课件二二.真空蒸发镀膜原理真空蒸发镀膜原理v图图2.1为真空蒸发镀膜原理示意图。为真空蒸发镀膜原理示意图。主要部分有：主要部分有：v真空室，为蒸发过程提供必要的真空环境；真空室，为蒸发过程提供必要的真空环境；v蒸发源或蒸发加热器，放置蒸发材料并对其蒸发源或蒸发加热器，放置蒸发材料并对其进行加热；进行加热；v基板（基片），用于接收蒸发物质并在其表基板（基片），用于接收蒸发物质并在其表面形成固态蒸发薄膜；面形成固态蒸发薄膜；v基板加热器及测温器等。基板加热器及测温器等。2PPT课件3PPT课件三真空蒸发的物理过程：三真空蒸发的物理过程：1.1.采用各种形
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