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一、光刻材料及设备一、光刻材料及设备二、光刻工艺二、光刻工艺三、刻蚀工艺三、刻蚀工艺四、光刻质量检测四、光刻质量检测第第5章章 光刻技术光刻技术1 光刻是一种将图像复印同刻蚀相结合的综合性技术。先光刻是一种将图像复印同刻蚀相结合的综合性技术。先用照像复印的方法，将光刻掩膜的图形精确的复印到涂覆在用照像复印的方法，将光刻掩膜的图形精确的复印到涂覆在介质（多晶硅、氮化硅、二氧化硅、铝等介质薄层）表面上介质（多晶硅、氮化硅、二氧化硅、铝等介质薄层）表面上的光致抗蚀剂（光刻胶）上面。然后，在光致抗蚀剂的保护的光致抗蚀剂（光刻胶）上面。然后，在光致抗蚀剂的保护下对待刻材料进行选择性刻蚀，从而在待刻蚀材料上得到所下对待刻材料进行选择性刻蚀，从而在待刻蚀材料上得到所需的图形。集成电路的制造过程中需要经过许多次的光刻，需的图形。集成电路的制造过程中需要经过许多次的光刻，所以，光刻环节的质量是影响集成电路性能、成品率以及可所以，光刻环节的质量是影响集成电路性能、成品率以及可靠性的关键因素之一。靠性的关键因素之一。2光刻胶光刻胶 光刻胶（光刻胶（PR）也叫光致抗蚀剂，受到光照后其特性会）也叫光致抗蚀剂，受
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