1.PVD镀膜含义?答:PVD(Physical Vapor Deposition)物理气相沉积技术:表示在真空条件下,采用物理方法,将材料源-固体或液体表面气化成气体原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有特殊功能薄膜的技术.2.PVD技术都有那些分类?答:PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类,真空蒸发、溅射、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。3. PVD镀膜的具体原理是什么?答:物理气相沉积是一种物理气相反应生长法,沉积过程是在真空或低气气体放电条件下,涂层物质源是固态物质,经过蒸发或溅射后,在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层.4. PVD镀膜与传统的化学电镀相比有何优点?答: PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是,两者都属于表面处理的范畴,都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面.两者的不同点是:PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大,膜层的硬度更高,耐磨性和耐腐蚀性更好,膜层的性能也更稳定;PVD镀膜可以镀的膜层的种
