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等离子体抛光技术 陈志航 2015.4.21一、概念知识 等离子体抛光是一种利用化学反应来去除表面材料而实等离子体抛光是一种利用化学反应来去除表面材料而实现超光滑抛光的方法。该方法始于二十世纪九十年代，现在现超光滑抛光的方法。该方法始于二十世纪九十年代，现在水平已达面形精度水平已达面形精度/50/50，表面粗糙度优于，表面粗糙度优于0.5nm0.5nm。加工范围。加工范围广，适用于各种尺寸和面形，是一种很有前途的超精加工方广，适用于各种尺寸和面形，是一种很有前途的超精加工方法。法。v等离子体：英文名plasma,是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质。等离子体抛光特点等离子体抛光特点lPACE抛光在真空室内进行。抛光在真空室内进行。l该方法只有表面的化学反应，工件不受机械压该方法只有表面的化学反应，工件不受机械压力，没有相应的机械变形和损伤，无亚表面破力，没有相应的机械变形和损伤，无亚表面破坏，无污染，工件边缘无畸变。坏，无污染，工件边缘无畸变。l材料的去除率控制精度高，可获得精确面形。材料的去除率控制精度高，可获得精确面形。l去除率高，可为去除
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