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硅材料、电池原理及制造-考试知识点5页.doc

2、举例说明晶体缺陷主要类型。晶体缺陷主要包含有以下四种,分别为:点缺陷、线缺陷、面缺陷和体缺陷点缺陷:弗伦克尔缺陷、肖特基缺陷线缺陷:位错(棱位错、刃位错、螺旋位错)面缺陷:层错(外延层错、热氧化层错)4、简述光生伏特效应。1)用能量等于或大于禁带宽度的光子照射p-n结;2)p、n区都产生电子空穴对,产生非平衡载流子;3)非平衡载流子破坏原来的热平衡;4)非平衡载流子在内建电场作用下,n区空穴向p区扩散,p区电子向n区扩散;5)若p-n结开路,在结的两边积累电子空穴对,产生开路电压。5、简述硅太阳能电池工作原理。当拥有等于或者大于硅材料禁带宽度的光子照射到硅材料上,在价带上的电子吸收这个光子的能量,跃迁到导帶上,并且在价带上留下一个空穴。即是在禁带两端产生了电子空穴对。而硅电池本身即为一个PN结,产生的电子空穴对即是注入的非平衡载流子,在内建电场的作用下,非平衡载流子分离,产生电流并在在整个硅电池两端形成电压。6、如何从石英砂制取硅?简要框图说明从石英到单晶硅的工艺。工业硅制备原理:多晶硅生产工艺:法

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