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精选优质文档-倾情为你奉上单晶硅太阳能电池/DSSC/PERC技术2015-10-20单晶硅太阳能电池2.太阳能电池片的化学清洗工艺 切片要求：切割精度高、表面平行度高、翘曲度和厚度公差小。断面完整性好，消除拉丝、刀痕和微裂纹。提高成品率，缩小刀(钢丝)切缝，降低原材料损耗。提高切割速度，实现自动化切割。 具体来说太阳能硅片表面沾污大致可分为三类： 1、有机杂质沾污： 可通过有机试剂的溶解作用，结合兆声波清洗技术来去除。2、颗粒沾污：运用物理的方法可采机械擦洗或兆声波清洗技术来去除粒径 0.4 m颗粒，利用兆声波可去除 0.2 m颗粒. 3、金属离子沾污：该污染必须采用化学的方法才能将其清洗掉。硅片表面金属杂质沾污又可分为两大类： （1）、沾污离子或原子通过吸附分散附着在硅片表面。 （2）、带正电的金属离子得到电子后面附着（尤如“电镀”）到硅片表面。1、用 H2O2作强氧化剂，使“电镀”附着到硅表面的金
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