第3 章 薄膜物理气相沉积 - 溅射法及其他PVD 方法2 主要内容 u 气体的放电现象与等离子体 u 物质的溅射效应和溅射产额 u 各种各样的溅射技术 u 其他物理气相沉积方法3 物理气相沉积 溅射法 溅射法 (Sputtering) (Sputtering) 与蒸发法 与蒸发法 (Evaporation) (Evaporation) 一样 一样 , , 是一种重要的薄膜 是一种重要的薄膜 PVD PVD 制备方法 制备方法4 概 述 溅射法是利用带有电荷的离子在电场中加速后具有一定动 能的特点，将离子引向欲被溅射的物质做成的靶电极。在离 子能量合适的情况下，入射离子在与靶表面原子碰撞过程中 将后者溅射出来。这些被溅射出来的原子带有一定的动能， 并且会沿着一定的方向射向衬底，实现薄膜的沉积。 由溅射现象的发现到离子溅射在镀膜技术中的应用，期间 经历了一个漫长的发展过程。 1853年，法拉第在进行气体放电实验时，总是发现放电管 玻璃内壁上有金属沉积现象； 1902年，Goldstein证明上述金属沉积是正离子轰击阴极溅 射出的产物；5 20世纪30年代，已经有人利用溅射现象在实验室中制
