第五章 第五章 薄膜淀积工艺 薄膜淀积工艺 （中） （中）薄膜淀积（ 薄膜淀积（ Thin Film Deposition Thin Film Deposition ）工艺 ）工艺 概述 概述 真空技术与等离子体简介 真空技术与等离子体简介 ( (第 第10 10章 章) ) 化学气相淀积工艺 化学气相淀积工艺 ( (第 第13 13章 章) ) 物理气相淀积工艺 物理气相淀积工艺 ( (第 第12 12章 章) ) 小结 小结 参考资料： 参考资料： 微电子制造科学原理与工程技术 微电子制造科学原理与工程技术 第 第10 10、 、12 12、 、13 13章 章 （电子讲稿中出现的图号是该书中的图号） （电子讲稿中出现的图号是该书中的图号） 引言 引言 CVD CVD工艺原理 工艺原理 CVD CVD技术分类及设备简介 技术分类及设备简介 典型物质（材料）的 典型物质（材料）的CVD CVD工艺 工艺 三、化学气相淀积工艺 三、化学气相淀积工艺 参考资料： 参考资料： 微电子制造科学原理与工程技术 微电子制造科学原理与工程技术 第 第13 13章 章 （电子讲稿中出现的图号是该书中
