第四讲 薄膜材料的溅射沉积 薄膜材料的溅射沉积 Preparation of thin films Preparation of thin films by sputtering by sputtering提 要 u u 气体的放电现象与等离子体 气体的放电现象与等离子体 u u 物质的溅射效应和溅射产额 物质的溅射效应和溅射产额 u u 各种各样的溅射技术 各种各样的溅射技术 n n 物理气相沉积 物理气相沉积 （ （ PVD PVD ） ） 是利用某种物理过 是利用某种物理过 程 程 物质的热蒸发或在受到粒子轰击 物质的热蒸发或在受到粒子轰击 时物质表面原子的溅射等，实现物质原子 时物质表面原子的溅射等，实现物质原子 从源物质到薄膜的物质的可控转移 从源物质到薄膜的物质的可控转移 n n 溅射法与蒸发法一样 溅射法与蒸发法一样 , , 也是一种重要的薄 也是一种重要的薄 膜 膜 PVD PVD 制备 制备 方法 方法 物理气相沉积n 利用带电荷的阳离子在电场中加速后具 有一定动能的特点，将离子引向欲被溅 射的物质制成的靶电极（阴极） n 入射离子在与靶面原子的碰撞过程中， 通过动量
