泓域咨询 /ITO靶材项目园区申请报告ITO靶材项目园区申请报告报告说明靶材是指通过各种镀膜工艺溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源，ITO是指氧化铟锡。ITO靶材是陶瓷靶材的一种，主要应用于半导体市场中，不仅可以用于制造液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸、有机发光二极管，还可以用于太阳能电池、抗静电镀膜、EMI屏蔽的透明传导镀膜等领域，在全球市场中需求持续增长。根据谨慎财务估算，项目总投资8391.12万元，其中：建设投资6381.49万元，占项目总投资的76.05%；建设期利息168.17万元，占项目总投资的2.00%；流动资金1841.46万元，占项目总投资的21.95%。项目正常运营每年营业收入18900.00万元，综合总成本费用15763.47万元，净利润2290.70万元，财务内部收益率20.45%，财务净现值1604.17万元，全部投资回收期6.05年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。该项目工艺技术方案先进合理，原材料国内市场供应充足，生产规模适宜，产品质量可靠，产品价格具有较强的竞争能力
