泓域咨询 /ITO靶材项目核准申请ITO靶材项目核准申请报告说明靶材是指通过各种镀膜工艺溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源，ITO是指氧化铟锡。ITO靶材是陶瓷靶材的一种，主要应用于半导体市场中，不仅可以用于制造液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸、有机发光二极管，还可以用于太阳能电池、抗静电镀膜、EMI屏蔽的透明传导镀膜等领域，在全球市场中需求持续增长。根据谨慎财务估算，项目总投资31593.56万元，其中：建设投资25196.17万元，占项目总投资的79.75%；建设期利息582.19万元，占项目总投资的1.84%；流动资金5815.20万元，占项目总投资的18.41%。项目正常运营每年营业收入52900.00万元，综合总成本费用45161.66万元，净利润5640.76万元，财务内部收益率10.89%，财务净现值-130.46万元，全部投资回收期7.32年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。通过分析，该项目经济效益和社会效益良好。从发展来看公司将面向市场调整产品结构，改变工艺条件以高附加值的产品代替
