表面分析技术表面分析技术 14-1 X射线光电子能谱基本原理 发展历史 xps特点 光电过程机理 结合能原理 化学位移 XPS谱中的伴峰 第四章 X射线光电子能谱表面分析技术表面分析技术 21.1.发展历史发展历史n1905 Einstein建立光电理论解释了碱金属经光线辐照产生光电流的光电效应；n40-50年代发现用X射线照射固体材料并测量由此引起的电子动能的分布，但当时可达到的分辩率还不足以观测到光电子能谱上的光电子峰。 n1958年，K.Siegbahn首次观测到光电子峰现象，并发现此方法可以用来研究元素的种类及其化学状态 。“化学分析光电子能谱（Eletron Spectroscopy for Chemical Analysis-ESCA） n60年代以来，随着微电子，超高真空以及计算机技术的发展，以及新材料对表面分析的需求，逐渐形成了X射线光电子能谱。 60年代开始研究仪器，70年代，商用仪器n多功能，小面积，图像化，微区分析，自动化表面分析技术表面分析技术 32.XPS2.XPS特点特点nXPS的主要特点是它能在不太高的真空度下进行表面分析研究，这是其它方法都做不到的。当用
