元素分析（元素分析（22）X射线荧光分析和电子探针分析朱永法2003年9月28日材料分析化学 1 清华大学化学系表面材料组X射线荧光光谱分析n 基础知识 1923年建立X射线荧光分析方法； 1950 X射线荧光分析谱仪1980 全反射X射线荧光谱仪 应用：固体材料（矿物，陶瓷，建材，环境，金属材料，薄膜，镀层分析）材料分析化学 2 清华大学化学系表面材料组XRF分析 方法原理n X射线荧光的产生 原子中的内层（如K层）电子被X射线辐射电离后在K层产生一个正孔穴。外层（L层）电子填充K层孔穴时，会释放出一定的能量，当该能量以X射线辐射释放出来时就可以发射特征X射线荧光。 材料分析化学 3 清华大学化学系表面材料组XRF分析原理n 荧光产率 俄歇效应与X射线荧光发射是两种相互竞争的过程。对于原子序数小于11的元素，俄歇电子的几率高。但随着原子序数的增加，发射X射线荧光的几率逐渐增加。重元素主要以发射X射线荧光为主。 材料分析化学 4 清华大学化学系表面材料组XRF分析原理n Moseley 定律 1/2a（Z-b) X射线荧光频率的平方根与元素的原子序数成正比 。只要获得了X射线荧光光谱线
