CMC.泓域咨询/投资项目经济影响分析方法光掩模玻璃基板公司投资项目经济影响分析方法目录第一章 行业背景分析2第二章 公司基本情况4一、 公司简介4二、 核心人员介绍4第三章 宏观环境分析6第四章 项目简介8一、 项目名称及项目单位8二、 项目建设地点8三、 建设规模8四、 项目建设进度8五、 建设投资估算8六、 项目主要技术经济指标9第五章 投资项目经济影响分析方法11一、 定量指标分析方法11二、 重大项目的经济安全影响分析15第一章 行业背景分析光刻掩膜版，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。光学掩模板是在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（集成电路）、FPD（平板显示器）、PCB（印刷电路板）、MEMS（微机电系统）等。光
