* 1第4 章 化学气相沉积4.1 化学气相沉积 合成方法发 展 化学气相沉积 乃是通过 化学反应 的方式，利用加热 、等离子激励或光辐 射等各种能源，在反应 器内使气态或蒸汽状态 的化学物质 在气相或气固界面上经 化学反应 形成固态 沉积 物的技术 。 化学气相沉积 的英文词 原意是化学蒸汽沉积 （Chemical Vapor Deposition,CVD ），因为 很多反应 物质 在通常条件下是液态 或固态 ，经过 汽化成蒸汽再参与反应 的。 化学气相沉积 的古老原始形态 可以追朔到古人类 在取暖或烧 烤时 熏在岩洞壁或岩石上的黑色碳层 。 作为现 代CVD 技术发 展的开始阶 段在20 世纪50 年代主要着重于刀具涂层 的应 用。 从20 世纪60 70 年代以来由于半导 体和集成电 路技术发 展和生产 的需要，CVD 技术 得到了更迅速和更广泛的发 展。 CVD 技术 不仅 成为 半导 体超纯 硅原料超纯 多晶硅生产 的唯一方法，而且也是硅单 晶外延、砷化镓 等旋半导 体和旋半导 体单 晶外延的基本生产 方法。 在集成电 路生产 中更广泛的使用CVD 技术 沉积 各种掺杂 的
