泓域咨询 /光罩项目投资方案报告说明光罩又称光掩模版、掩膜版，由石英玻璃作为衬底，在上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻。光罩是半导体核心工艺光刻的最关键器件。根据谨慎财务估算，项目总投资8617.17万元，其中：建设投资6604.04万元，占项目总投资的76.64%；建设期利息94.08万元，占项目总投资的1.09%；流动资金1919.05万元，占项目总投资的22.27%。项目正常运营每年营业收入19600.00万元，综合总成本费用15470.66万元，净利润3020.81万元，财务内部收益率27.76%，财务净现值6251.41万元，全部投资回收期5.00年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。通过分析，该项目经济效益和社会效益良好。从发展来看公司将面向市场调整产品结构，改变工艺条件以高附加值的产品代替目前产品的
