泓域咨询 /光罩项目分析调研报告说明光罩又称光掩模版、掩膜版，由石英玻璃作为衬底，在上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻。光罩是半导体核心工艺光刻的最关键器件。根据谨慎财务估算，项目总投资12289.62万元，其中：建设投资9947.27万元，占项目总投资的80.94%；建设期利息114.23万元，占项目总投资的0.93%；流动资金2228.12万元，占项目总投资的18.13%。项目正常运营每年营业收入25000.00万元，综合总成本费用20131.02万元，净利润3563.48万元，财务内部收益率22.43%，财务净现值6520.97万元，全部投资回收期5.43年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。本期项目技术上可行、经济上合理，投资方向正确，资本结构合理，技术方案设计优良。本期项目的投资建设和实施无论是经济效益
