泓域咨询 /光罩项目分析研究报告说明光罩又称光掩模版、掩膜版，由石英玻璃作为衬底，在上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻。光罩是半导体核心工艺光刻的最关键器件。根据谨慎财务估算，项目总投资22317.36万元，其中：建设投资18191.04万元，占项目总投资的81.51%；建设期利息530.53万元，占项目总投资的2.38%；流动资金3595.79万元，占项目总投资的16.11%。项目正常运营每年营业收入39700.00万元，综合总成本费用33253.36万元，净利润4697.97万元，财务内部收益率15.08%，财务净现值1724.55万元，全部投资回收期6.62年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。本项目符合国家产业发展政策和行业技术进步要求，符合市场要求，受到国家技术经济政策的保护和扶持，适应本地区及临近地区
