泓域咨询 /光罩项目分析说明光罩项目分析说明报告说明光罩又称光掩模版、掩膜版，由石英玻璃作为衬底，在上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻。光罩是半导体核心工艺光刻的最关键器件。根据谨慎财务估算，项目总投资27858.77万元，其中：建设投资21811.42万元，占项目总投资的78.29%；建设期利息319.12万元，占项目总投资的1.15%；流动资金5728.23万元，占项目总投资的20.56%。项目正常运营每年营业收入53400.00万元，综合总成本费用43660.89万元，净利润7120.63万元，财务内部收益率19.06%，财务净现值5718.55万元，全部投资回收期5.86年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。本项目生产线设备技术先进，即提高了产品质量，又增加了产品附加值，具有良好的社会效益
