光罩项目简介(范文模板).docx

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资源描述

泓域咨询 /光罩项目简介光罩项目简介报告说明光罩又称光掩模版、掩膜版,由石英玻璃作为衬底,在上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻。光罩是半导体核心工艺光刻的最关键器件。根据谨慎财务估算,项目总投资27389.42万元,其中:建设投资22306.77万元,占项目总投资的81.44%;建设期利息303.45万元,占项目总投资的1.11%;流动资金4779.20万元,占项目总投资的17.45%。项目正常运营每年营业收入55700.00万元,综合总成本费用43135.19万元,净利润9201.31万元,财务内部收益率27.63%,财务净现值15977.13万元,全部投资回收期4.92年。本期项目具有较强的财务盈利能力,其财务净现值良好,投资回收期合理。由上可见,无论是从产品还是市场来看,本项目设备较先进,其产品技术含量较高、企业利润率高、市场

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