泓域咨询 /光罩项目立项核准报告报告说明光罩又称光掩模版、掩膜版,由石英玻璃作为衬底,在上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻。光罩是半导体核心工艺光刻的最关键器件。根据谨慎财务估算,项目总投资35245.89万元,其中:建设投资27042.50万元,占项目总投资的76.73%;建设期利息535.45万元,占项目总投资的1.52%;流动资金7667.94万元,占项目总投资的21.76%。项目正常运营每年营业收入80700.00万元,综合总成本费用61472.50万元,净利润14098.78万元,财务内部收益率30.84%,财务净现值28673.87万元,全部投资回收期5.13年。本期项目具有较强的财务盈利能力,其财务净现值良好,投资回收期合理。通过分析,该项目经济效益和社会效益良好。从发展来看公司将面向市场调整产品结构,改变工艺条件以高附加值的产品