泓域咨询 /光罩项目评价分析报告报告说明光罩又称光掩模版、掩膜版，由石英玻璃作为衬底，在上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻。光罩是半导体核心工艺光刻的最关键器件。根据谨慎财务估算，项目总投资23821.49万元，其中：建设投资19112.34万元，占项目总投资的80.23%；建设期利息560.47万元，占项目总投资的2.35%；流动资金4148.68万元，占项目总投资的17.42%。项目正常运营每年营业收入44200.00万元，综合总成本费用34312.70万元，净利润7236.79万元，财务内部收益率24.24%，财务净现值13434.26万元，全部投资回收期5.57年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。该项目工艺技术方案先进合理，原材料国内市场供应充足，生产规模适宜，产品质量可靠，产品价格具有较强的竞争能力。
