精选优质文档-倾情为你奉上真空镀膜 预习报告陈嘉琦 【摘要】真空镀膜最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。本实验采用的是蒸发法镀膜。理想的镀膜结果应在真空环境下进行，所以先对真空室进行抽真空，再进行镀膜。一、引言 真空镀膜也叫物理气相沉积（PVD：physics vaporous deposit），它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。不仅两种物理气相沉积方法已经大量应用于各个技术领域之中，而且为了充分利用这两种方法各自的优点，还开发出了许多介于上述两种方法之间的新的薄膜沉积技术。 2、 实验目的1、复习巩固真空的获取实验2、完成镀膜过程 三、实验原理真空镀膜是在真空室中进行的（一般气压低于），当需要蒸发的材料（金属或电介质）加热到一定温度时，材料中分子或原子的热振动能量可增大到足以克服表面的束缚能，于是大量分子或原子从液态或直接从固态（如、）汽
