光掩模玻璃基板公司资源环境承载力概述（范文）.docx

CMC.泓域咨询/资源环境承载力概述光掩模玻璃基板公司资源环境承载力概述xx有限公司目录第一章 行业背景分析3第二章 公司基本情况5一、 公司简介5二、 核心人员介绍5第三章 项目简介7一、 项目名称及项目单位7二、 项目建设地点7三、 建设规模7四、 项目建设进度7五、 建设投资估算7六、 项目主要技术经济指标8第四章 宏观环境分析10第五章 资源环境承载力概述12一、 资源环境承载力分析框架12二、 资源环境承载力的特征15第一章 行业背景分析光刻掩膜版，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。光学掩模板是在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（集成电