泓域咨询 /光掩模玻璃基板项目园区申请报告报告说明光刻掩膜版，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。根据谨慎财务估算，项目总投资12877.09万元，其中：建设投资9958.13万元，占项目总投资的77.33%；建设期利息250.84万元，占项目总投资的1.95%；流动资金2668.12万元，占项目总投资的20.72%。项目正常运营每年营业收入25000.00万元，综合总成本费用21253.38万元，净利润2729.09万元，财务内部收益率13.62%，财务净现值1307.96万元，全部投资回收期6.94年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。本项目符合国家产业发展政策和行业技术进步要求，符合市场要求，受到国家技术经济政策的保护和扶持，适应本地区及临近地区的相关产品日益发展的要求。项目的各项外部条件齐备，交通运输及水电供应均有充分保证，有优越的建设条件。，企业经济和社会效益较好，能实现技术进步，产业结构调整，提高经济效益的目的。
