泓域咨询 /光掩模玻璃基板项目用地申请报告光掩模玻璃基板项目用地申请报告报告说明光刻掩膜版，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。根据谨慎财务估算，项目总投资21802.81万元，其中：建设投资17375.41万元，占项目总投资的79.69%；建设期利息351.36万元，占项目总投资的1.61%；流动资金4076.04万元，占项目总投资的18.70%。项目正常运营每年营业收入39100.00万元，综合总成本费用30192.76万元，净利润6520.27万元，财务内部收益率22.64%，财务净现值9486.08万元，全部投资回收期5.75年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。该项目工艺技术方案先进合理，原材料国内市场供应充足，生产规模适宜，产品质量可靠，产品价格具有较强的竞争能力。该项目经济效益、社会效益显著，抗风险能力强，盈利能力强。综上所述，本项目是可行的。目录一、 项目名称及建设性质5二、 项
