CMC.泓域咨询/企业员工培训与开发课程光掩模玻璃基板项目企业员工培训与开发课程目录第一章 行业背景分析2第二章 宏观环境分析4第三章 培训方法的选择与应用6一、 几种常用培训方法的应用6二、 企业员工培训与开发的各种方法14第四章 项目概况36一、 项目概述36二、 项目总投资及资金构成37三、 资金筹措方案37四、 项目预期经济效益规划目标38五、 项目建设进度规划38第五章 公司概况39一、 公司基本信息39二、 公司主要财务数据39第一章 行业背景分析光刻掩膜版，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。光学掩模板是在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（集成电路）、FPD（平板显示器）、PCB（印刷电路板）、MEMS（微机电系统）等。
