第三章 薄膜制备技术 气相法液相法化学溶液镀膜法：化学镀(CBD)、电镀(ED)、溶胶-凝胶（Sol-Gel）、金属有机物分解（MOD）、液相外延（LPE）、水热法（hydrothermal method）、喷雾热解(spray pyrolysis)、喷雾水解(spray hydrolysis)、LB膜及自组装(self-assemble)物理气相沉积（PVD）化学气相沉积（CVD）常压CVD、低压CVD、金属有机物CVD、等离子体CVD、光CVD、热丝CVD真空蒸发 Evaperation溅射 Sputtering离子镀 Ion plating3.0 薄膜制备方法的分类薄膜制备的物理方法薄膜制备的化学方法一般，对于制备薄膜的要求，可以归纳如下：膜厚均匀；膜的成分均匀；沉积速率高，生产能力高；重复性好；具有高的材料纯度高，保证化合物的配比；具有较好的附着力（与基体），较小的内应力。3.1.1 物理气相沉积(physical vapor deposition )利用热蒸发源材料或电子束、激光束轰击靶材等方式产生气相物质，在真空中向基片表面沉积形成薄膜的过程称为物理气相沉积。主要方法有：1
