表面形貌衬度原理及其应用选自第十二章：扫描电子显微镜第4节:表面形貌衬度原理及其应用表面形貌衬度原理及其应用n 表面形貌衬度的形成是由于某些信号的强度是试样表面倾角的函数，而试样表面微区形貌差别实际上就是各微区表面相对于入射电子束的倾角不同，因此电子束在试样上扫描时任何两点的形貌差别，表现为信号强度的差别，从而在图像中形成显示形貌的衬度。n 由于二次电子信号主要来自样品表层5-l0 nm深度范围，它的强度与原子序数没有明确的关系，而仅对微区表面相对于入射电子束的位向十分敏感，且二次电子像分辨率比较高，所以特别适用于显示形貌衬度。 a) =0 L=510nm=45 b)=60 2Lc)n 入射电子束与试样表面法线间夹角愈大，二次电子产额愈大。 二次电子成像原理A二次电子形貌衬度n 样品上B处倾斜度最小，A次之，C处倾斜度最大；所以C处二次电子产额最大，亮度最大，B处亮度最小。n 凸出的尖棱、小粒子以及比较陡的斜面处二次电子产额较多，这些部位亮度较大；平面上二次电子产额较少；深的凹槽底部虽然也能产生较多的二次电子，但这些二次电子不易被检测器收集到，因此槽底的衬度也会显得较暗。A B C A
