光掩模玻璃基板项目工程进度控制目录第一章 行业背景分析2第二章 宏观环境分析4第三章 项目简介7一、 项目名称及项目单位7二、 项目建设地点7三、 建设规模7四、 项目建设进度7五、 建设投资估算7六、 项目主要技术经济指标8第四章 工程项目进度控制10一、 项目进度控制的依据10二、 项目进度控制方法11第五章 公司简介22一、 基本信息22二、 公司简介22三、 公司主要财务数据23第一章 行业背景分析光刻掩膜版，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。光学掩模板是在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（集成电路）、FPD（平板显示器）、PCB（印刷电路板）、MEMS（微机电系统）等。光掩模板主要由玻璃基板与遮光膜两部分组成，
