光掩模玻璃基板项目资产证券化方案分析（模板）.docx

CMC.泓域咨询/资产证券化方案分析光掩模玻璃基板项目资产证券化方案分析xxx投资管理公司目录第一章 行业背景分析3第二章 资产证券化方案分析5一、 资产证券化模式设计5二、 资产证券化定价模型及其应用14第三章 宏观环境分析20第四章 公司简介23一、 基本信息23二、 公司简介23三、 公司主要财务数据24第五章 项目基本情况26一、 项目名称及投资人26二、 结论分析26第一章 行业背景分析光刻掩膜版，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。光学掩模板是在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（集成电路）、FPD（平板显示器）、PCB（印刷电路板）、MEMS（微机电系统