学习情境1基本网络设备采购(共4页).doc

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精选优质文档-倾情为你奉上集成电路制造工艺单元设计2教学单元名称:衬底材料制备授课班级微电141、142课时4授课地点SB304授课教师余建授课时间第1周周四 5-8节 单元教学目标1、 能力目标(1)熟悉西门子工艺、改良西门子工艺、硅烷热分解法制备高纯多晶硅工艺流程;(2)能够根据实际需求,选择合适方式制备满足纯度要求的高纯多晶硅料;(3)掌握单晶炉结构构造;(4)能够编制直拉法制备8英寸大直径单晶硅工艺文件;2、知识目标(1)熟悉几种典型的高纯多晶硅制备方式工艺原理及其优缺点;(2)单晶炉结构构造及各部件功能(3)熟悉直拉法制备8英寸大直径单晶硅工艺流程;(4)熟悉单晶硅质量缺陷类型及晶体完美化处理工艺;3、素质目标(1)培养学生分析问题和解决实际问题的能力。(2)培养了学生初步的工艺分析能力和创新意识在工作过程中培养严谨细致的工作作风。单元教学内容1、明确教学目标2、明确教学考核要求与方式3、教学主要内容3.1IC发展与晶圆直径大小的关系3.

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