南大光电:关于实施国家“02 专项”ArF 光刻胶产品的开发与产业化的可行性研究报告.doc

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资源描述

1、江苏南大光电材料股份有限公司关于实施国家“02 专项”ArF 光刻胶产品的开发与产业化的可行性研究报告二零一八年拾贰月1第一章 项目简介一、项目名称国家“02 专项 ”ArF 光刻胶产品的开发与产业化。二、项目投资主体介绍江苏南大光电材料股份有限公司(以下简称“南大光 电” 、“公司” 、 “本公司”)成立于 2000 年 12 月,注册 资本 27,346.88 万元,为全球 MO源主要供应商之一。南大光电经过多年的技术积累及创新,已经拥有完全 自主知识产权的 MO 源独特生产技术。作为全球 MO 源的主要供应商,产 品在满足国内需求时,已 远销日本、台湾,韩国、欧洲和美国。公司获得 了 I

2、SO9001 质量认证体系、ISO14001 环境认证体系及 OHSAS18001 职业健 康体系的认证。公司 2012 年 8 月 7 日在深圳 证券交易所创业板成功上市。 公司目前拥有 MO 源、电子特气、光刻胶三大业务板块,努力成 为国际一 流的 MO 源供应商、国内领先的电子特气供应商和国内技术最领先的光刻 胶供应商并力争在五到十年内发展成为国际上优秀的电子材料生产企业。三、项目简介公司拟投资65,557万元实施“193nm(ArF)光刻胶材料开发和产业化” 项目,项目实施主体宁波南大光 电材料有限公司是本公司的全 资子公司。(一)宁波南大光电材料有限公司简介2公司名称:宁波南大光电材

3、料有限公司注册号:91330206MA2AGQ8Q11住所:浙江省宁波市北仑区大碶街道宝山路 1289 号 1005-1006室法定代表人姓名:冯剑松公司性质:一人有限责任公司(私营法人独资)注册资本:壹仟万圆整 经营范围:光电材料、高纯电子材料的研发、销售、高纯化工原材料及产品(除危险化学品、监控化学品、烟花爆竹、民用爆炸物品、 易制毒化学品)、从事新材料科技、微电子科技、化工科技领域内的技 术开发、技术咨询、技术服务、技术转让,自营和代理各类货物和技 术的进出口业务(除国家限定公司经营或禁止进出口的货物及技术)。 (依法需经批准的项目, 经相关部门批准后方可开展经营活动)(二)项目建设主要

4、内容简介公司将通过 3 年的建设、投产及实现销售,达到年产 25 吨 193nm(ArF 干式和浸没式)光刻胶产品的生产规模。产品满足集成电路行业需求标准,同时建成先进光刻胶分析测试中心和高分辨率光刻胶研发中心,为公司新的高端光刻胶产品的研发和产业化提供技术保障。目前本项目的主要建设内容为生产车间、分析测试中心、研发中心、仓库、水电、道路等配套设施的建设。3第二章 项目建设的必要性和可行性一、项目建设的必要性近年来,以华为、 联想和中兴等企业为龙头的我国电子工业发展迅速, 在国际市场崭露头角,为国民经济的可持续发展起到了重要的拉 动作用。 尽管我国集成电路制造产业近些年来已经取得长足的进步,但

5、是还远远不 能满足国内电子工业对集成电路芯片的需求。我国每年进口集成 电路芯片 的金额超过 2000 多亿美元,超过粮食和石油的 进口金额 。与此同时,我国 对进口芯片的依赖给西方国家窃取我国国家机密信息留下了可乘之机,严 重威胁着国家的信息安全。另外,集成电路产业 也是物联网、人工智能等 未来新兴产业发展的重要支柱。因此,国家领导人 习近平总书记、李克强 总 理、马凯副总理和刘延东副总理等对我国集成电路产业的发展高度重视。 国家已 经将集成电路制造列为重点支持发展的产业,出台各项相关的政策, 大力推动我国集成电路产业的迅速发展。在政策的引导下,全国各地正在 新建十几条 12 寸生产线,整个集

6、成电路行业呈现蓬勃发展的良好势头。然而,作为集成电路制造最为关键的基础材料之一高档光刻胶材 料(如:ArF 光刻胶 ),几乎完全依赖于进口。这种局面已 经严重制约了我国 集成电路产业的自主发展。更有甚者,我国集成电路工业使用的高档光刻 胶中,80%以上都是从日本一个国家进口(剩余的部分从美国进口)。这样 垄断式的依赖格局使得中国集成电路产业在我国发生严重自然灾害、政治 冲突、商业冲突或军事冲突时受到严重的负面影响。从产品性质方面分析, 相较于可以长时间保存(3 年左右,甚至更 长)的大硅片和先 进制造设备 ,4高档光刻胶的保质期很短(6 个月左右,甚至更短)。一旦遇到上述的自然灾害或冲突,我国

7、集成电路产业势必面临芯片企业短期内全面停产的严重局面。因此,尽快实现全面国产化和产业化高档光刻胶材料具有十分重要的战略意义和经济价值。以 ArF 光刻胶产品为代表的先进光刻胶以及工艺的主要技术和专利都掌握在国外的企业与研究部门,如日本的信越化学(Shin-Etsu Chemical)、合 成 橡 胶 (JSR) 、 东 京 应 化 (TOK) 、 住 友 化 学 ( Sumitomochem )、 富 士 胶 片(Fujifilm)和美国陶氏(Dow Chemical Company)。这几家企业不仅几乎占据了国内外先进光刻胶市场全部份额,而且也 垄断了相关专利。 为了我国集成电路产业的健康发展,这种状况必须要改 变。因此,开展以 ArF 光刻胶为代表的高分辨率光刻胶材料的大规模产业 化具有非常重要的战略意义。二、项目建设的可行性5

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