在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确光刻工艺简介在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确目录 光刻工艺原理 光刻工艺过程 光刻三要素在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确光刻工艺原理制造光罩（原版）设计了决定半导体芯片功能和性能的电子电路。电路图被转移到几十块玻璃板上晶元的准备制备圆形晶片，作为半导体芯片的基片。将晶片加热，在其表面形成氧化膜，然后涂上光敏剂（光刻胶，抗蚀剂）在整堂课的教学中，刘教师总是让学生带着问题来学习，而问题的设置具有一定的梯度，由浅入深，所提出的问题也很明确光刻工艺原理将电路图案转移到晶元上为了将电路图案转移到晶片上，将光罩暴露在光下。通过使用缩小透镜聚焦光，甚至可以转移更精细的电路图案。电路图中的线越窄，可传输的半导体元件数量越多，因此芯片的性能和功能也就越高当暴露在光下时，光刻胶会发生变化，并且使用显影溶液去除暴露部分，这样电路图案就转移到了晶元上在整
