半导体行业污染控制典型办法ppt课件.ppt

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在整堂课的教学中,刘教师总是让学生带着问题来学习,而问题的设置具有一定的梯度,由浅入深,所提出的问题也很明确第五章 污染控制5.1 概述 在这一章中,将解释污染对器件工艺、器件性能和器件可靠性的影响 ,以及芯片生产区域存在的污染类型和主要的污染源。同时也简要介绍洁净室规划、主要的污染控制方法和晶片表面的清洗工艺等。5.2 污染类型 微粒 金属离子 化学物质 细菌 微粒 器件对污染物的敏感度取决于特征图形的尺寸和晶体表面沉积层的厚度。由于特征图形尺寸越来越小,膜层厚度越来越薄,所允许存在的微粒 尺寸也必须控制在更小的尺度上。在整堂课的教学中,刘教师总是让学生带着问题来学习,而问题的设置具有一定的梯度,由浅入深,所提出的问题也很明确在整堂课的教学中,刘教师总是让学生带着问题来学习,而问题的设置具有一定的梯度,由浅入深,所提出的问题也很明确 经验告诉我们,微粒的大小要小于器件上最小特征图形尺寸的1/10。(就是说直径为0.03微米的微粒将会损坏0.3微米线宽大小的特征图形。)否则会造成器件功能的致命伤害。在整堂课的教学中,刘教师总是让学生带着问题来学习,而问题的设置具有一定的梯度,由浅入深,

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