微电子制造技术硅片湿法清洗课件.ppt

上传人:晟*** 文档编号:14471428 上传时间:2022-10-23 格式:PPT 页数:33 大小:1.45MB
下载 相关 举报
微电子制造技术硅片湿法清洗课件.ppt_第1页
第1页 / 共33页
微电子制造技术硅片湿法清洗课件.ppt_第2页
第2页 / 共33页
微电子制造技术硅片湿法清洗课件.ppt_第3页
第3页 / 共33页
微电子制造技术硅片湿法清洗课件.ppt_第4页
第4页 / 共33页
微电子制造技术硅片湿法清洗课件.ppt_第5页
第5页 / 共33页
点击查看更多>>
资源描述

电信学院 微电子学系 1 微电子制造技术微电子制造技术微电子制造技术第第 6 6 章章 硅片制造中的沾污控制硅片制造中的沾污控制 电信学院 微电子学系 2 微电子制造技术引 言 一个硅片表面有多少个芯片,每个芯片差不多有数以千万计的器件和互联线路,它们对沾污非常敏感。随着芯片的特征尺寸为适应更高性能和更高集成度的要求而不断缩小,控制表面沾污变得越来越关键。 本章将介绍硅片制造中各种类型的沾污和它们的来源,以及怎样有效控制沾污等内容,以制造包含最小沾污诱生缺陷的高性能产品 为了控制制造过程中不能接受的沾污,半导体产业开发了净化间。净化间以超净空气把芯片制造与外界的沾污环境隔离开来,包括化学品、人员和常规的工作环境。

展开阅读全文
相关资源
相关搜索

当前位置:首页 > 教育教学资料库 > 课件讲义

Copyright © 2018-2021 Wenke99.com All rights reserved

工信部备案号浙ICP备20026746号-2  

公安局备案号:浙公网安备33038302330469号

本站为C2C交文档易平台,即用户上传的文档直接卖给下载用户,本站只是网络服务中间平台,所有原创文档下载所得归上传人所有,若您发现上传作品侵犯了您的权利,请立刻联系网站客服并提供证据,平台将在3个工作日内予以改正。