材料合成与制备方法聊城大学材料科学与工程学院第三章 薄膜的制备本章主要内容基片及其处理方法物理气相沉积(真空蒸镀)溅射成膜化学气相沉积三束技术溶胶- 凝胶技术3.1 薄膜材料基础(1). 薄膜材料的概念 采用一定方法,使处于某种状态的一种或几种物质(原材料)的基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面,在衬底材料表面形成一层新的物质,这层新物质就是薄膜。 简而言之,薄膜是由离子、原子或分子的沉积过程形成的二维材料。(2). 薄膜分类 (1)物态(2)结晶态: (3)化学角度 (4)组成 (5)物性 q 厚度,决定薄膜性能、质量q 通常,膜厚 数十m, 一般在1m 以下。 薄膜的一个重要参数3. 薄膜应用 光学薄膜、集成电路、太阳能电池、液晶显示膜、光盘、磁盘、刀具硬化膜、建筑镀膜制品、塑料金属化制品4.薄膜的制备方法代表性的制备方法按物理、化学角度来分,有: 1)物理成膜 PVD2)化学成膜 CVD 薄膜的生长过程分为以下三种类型: (1) 核生长型 (2) 层生长型 (3) 层核生长型3.2 薄膜的形成机理 (1) 核生长型 特点:到达衬底上的沉积原子首先凝聚成核,后续飞来的沉积原子不断