KH570改性SiO (1).docx

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改性机理KH570的分子结构是CH=C(CH)COO(CH)Si(OCH)。利用KH570对Nano-SiO进行表232332面改性的反应机理如图1所示,整个偶联反应过程是分步进行的:(1)与硅原子相连的Si-X基水解,生成Si-OH的低聚硅氧烷;(2)低聚硅氧烷中的Si-OH与SiO2基体表面的-OH形成氢键;(3)加热固化过程中,伴随脱水反应而与基材形成共价键链接。一般认为界面上硅烷偶偶联水解生成的3个硅羟基中只有一个与基体表面羟基键合;剩下的两个Si-OH,或与其他硅烷的Si-OH缩合,或呈游离状态。+ROHOHSiOHKH-570接枝改性Nano-SiO应机理将纳米二氧化硅在100C的温度下干燥12h,取1g干燥好的纳米二氧化硅溶解于醇水比为1:1的醇水介质中,其中无水乙醇的量为10ml,蒸馏水的量为10ml,在超声波清洗器中分散20min;取18ml无水乙醇和2ml的蒸馏水,在醇水比为9:1的的醇水介质中用稀释的冰乙酸调节pH,使其pH为5,用移液管量取1ml的KH-570加入到呈弱酸性的醇水介质中,常温下机械搅拌水解1

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