第一章 表面探针分析X 射线光电子能谱（XPS ）俄歇电子能谱（AES ）二次离子质谱（SIMS ）1-1 X 射线光电子能谱原理与应用X 射线光电子能谱（X-Ray Photoelectron Spectroscopy ，XPS ） 材料现代分析方法 利用X 射线与样品表面作用产生光电子，通过分析光电子能量分布得到光电子能谱，用来分析材料表面元素化学状态的方法。 XPS 又称化学分析用电子能谱（Electron Spectroscopy for Chemical Anslysis ，ESCA ），强调X 射线电子能谱中既有光电子峰，也有俄歇电子峰。XPS 是研究材料表面组成和结构的最常用的一种电子能谱。 1. 光电子发射 当X 射线光子与样品作用，被样品原子的电子散射和吸收。 X 射线易被内层电子吸收。若入射X 射线能量（h ）大于原子中电子的结合能及样品的功函数时，电子可以吸收光子的能量而逸出样品，形成光电子（内层电子电离后较外层电子跃迁填补空穴，同时发射X 射线或俄歇电子）材料现代分析方法一、XPS 基本原理材料现代分析方法光电子L1L2K俄歇电子特征X 射线入射X 射线光电子的
