1第四章 光学薄膜制造工艺1 光学薄膜器件的质量要求2 影响膜层质量的工艺要素3 膜层厚度监控 4 膜层厚度均匀性第1 页/ 共45 页24.1 光学薄膜器件的质量要求1、薄膜器件光学性能(R、T、A)o 聚集密度(填空密度)o 微观组织物理结构(晶体结构)o 膜层化学成分n 光学常数(n, k, d)n 折射率产生偏差的原因介电常数空隙气体镀膜方式、T第2 页/ 共45 页34.1 光学薄膜器件的质量要求2、薄膜器件机械性能n 硬度n 牢固度（附着力） 3、薄膜器件环境稳定性n 盐水盐雾、高湿高温、高低温、水浴、酸碱腐蚀材料本身+内部结构决定结合力性质决定第3 页/ 共45 页44、膜层填充密度(1) 产生柱状结构的原因：薄膜聚集密度（填充密度）P:填充膜料沉积分子的有限迁移率已经沉积分子对后继沉积分子的阴影效应第4 页/ 共45 页5蒸气入射角与柱状结构的生长方向之间的关系：基底温度；沉积速率；真空度；沉积入射角；离子轰击。(2)影响薄膜聚集密度的因素:第5 页/ 共45 页6热蒸发制备的薄膜柱状结构照片第6 页/ 共45 页74.2 影响膜层质量的工艺要素真空镀膜基本工艺过程:第
